頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產品。

ME-L是一款全自動高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀，擁有行業(yè)前沿的光路調制技術，采用半導體制冷式探測器，具有超高靈敏度和極快的信號采集速度，同時也包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。

ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿足大尺寸晶圓的多點自動化掃描測量需求，自定義繪制測量路徑，支持實時顯示膜厚分布以及數據匯總。設備采用雙旋轉補償器調制技術，直接測量16階穆勒矩陣，可獲取更多樣件信息。具有寬光譜消色差補償技術以及儀器精密校準算法，大大提升測量準確度和精度，廣泛應用于設備廠商/Fab級鍍膜均勻性快速測量表征。

SE-VM光譜橢偏儀可實現科研/企業(yè)級高精度快速光譜橢偏測量，支持多角度，微光斑等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計，廣泛應用于光通訊/OLED/TP/透明導電膜等涉及透明襯底鍍膜測量表征應用。

SR-C反射膜厚儀采用微納米薄膜光學創(chuàng)新測量技術，應用于各式光學薄膜膜厚快速表征。

SR-Mapping反射膜厚儀利用反射干涉的原理進行無損測量，提供半導體級Mapping測量解決方案，應用于成膜設備/Fab級鍍膜等大尺寸薄膜均勻性自定義多點分布測量。

SR-M顯微膜厚儀采用微米級聚焦光斑，同時利用顯微物鏡定位測量點，針對特定微小區(qū)域實現微區(qū)厚度精準表征。

EOF系列膜厚儀采用Mapping測量機臺，支持多種測頭參數定制，配備圖像識別功能，一鍵完成整片自動測量。